EUV

EUV Simulation

Beschreibung

Simulation der Lichtstreuung an zweidimensionalen EUV (extreme ultra violett) Photolithographiemasken

Weitere Informationen finden sich in der ausführlichen Projektbeschreibung.

 
Mitarbeiter

Sven Burger
Roland Klose
Achim Schädle
Frank Schmidt
Lin Zschiedrich

Verantwortlich

Frank Schmidt

Partner  

• Infineon Technologies AG
• JCMwave GmbH

 
Finanzierung

Infineon Technologies AG
JCMwave GmbH

Dauer

01/2005 - 02/2005