Phase Masks

Entwurf von Phasenmasken

Beschreibung

Wir untersuchen numerische Methoden zur Simulation der Lichstreuung an 2D und 3D DUV Photolithographiemasken. Das beinhaltet die Anpassung des Softwarepakets JCMharmony.

Weitere Informationen finden sich in der ausführlichen Projektbeschreibung.

 
Mitarbeiter

Sven Burger
Roland Klose
Achim Schädle
Frank Schmidt
Lin Zschiedrich

Verantwortlich

Frank Schmidt

Partner 

• Infineon Technologies AG
• JCMwave GmbH

Finanzierung

Infineon Technologies AG
JCMwave GmbH

Dauer

est. 07/2005 - 06/2007