Photolithography
Entwurf und Optimierung von Algorithmen für die Photolithographie
Beschreibung
Wir untersuchen numerische Methoden zur Simulation der Lichstreuung an 2D und 3D DUV Photolithographiemasken. Das beinhaltet die Anpassung des Softwarepakets JCMharmony.
Weitere Informationen finden sich in der ausführlichen Projektbeschreibung.
Mitarbeiter
Sven Burger
Achim Schädle
Frank Schmidt
Lin Zschiedrich
Verantwortlich
Partner
Finanzierung
Dauer
est. 11/2007 - 12/2008
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Photolithography - 01.11.2007 00:00